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碳化硅磚

添加時間:2016年7月11日  瀏覽次數:

碳化硅磚

碳化硅磚具有高度的共價鍵結合特性(共價鍵占有率為90%),故有良好的化學穩定性,同時略次于金剛石的硬度也使其具備了優良的耐磨性,此外碳化硅磚還有較高的高溫強度、高熱導、低膨脹率和良好的抗熱震等性能。

SiC最初被廣泛地應用于磨料工業,目前大規模生產碳化硅材料基本上采用電熔解法      

SiO2+3c→SiC+2CO—620KJ/mo

目前在耐火材料方面主要有兩個領域的應用,一是以碳化硅為基的耐火材料系列:二是作為添加劑改善氧化物耐火材料的性能。作為添加氧化鋁基(AL2O3)耐火材料系統中,將改善鋁質耐火材料的耐火度、高溫強度、熱穩定性,尤其是抗熱震性能的提高。

碳化硅磚

碳化硅磚是共價鍵性極強的化合物,在高溫狀態下仍可以保持高的鍵合強度,強度降低不明顯,高溫變形小,且導熱性好,熱膨脹系數小,熱震穩定性好。由此,碳化硅材料被認為是一種很優異的高溫結構材料和耐火材料。但是,碳化硅磚是一種非氧化物材料,在高溫、氧化條件下,不可避免的帶來氧化問題

雖然SiC的氧化產物,SiO2保護膜,可以阻止氧化的進一步發生但是約在800℃—1140℃SiO2膜會因相變而產生體積變化,從而使其結構變得疏松,氧化保護作用驟減:另外,在一定條件下,SiO2保護膜還無法形成。這都將導致碳化硅材料的使用性能降低,影響它的使用壽命。

碳化硅磚在普通條件下(如大氣1000℃-2000℃)具有較好的抗氧化性能,這是由于在高溫條件下,碳化硅材料表面形成了一層非常薄的、致密的、與基體集合牢固的SiO2膜,氧在SiO2氧化膜中的擴散系數非常小,因此碳化硅材料的氧化非常緩慢。碳化硅材料在這種富氧條件下的緩慢氧化稱為惰性氧化。但在某些條件下,如在足夠高的溫度下或較低的氧分壓下,SiC轉化為揮發性的SiO2保護膜被環境腐蝕,這將導致碳化硅材料被快速氧化,即產生活性氧化。而碳化硅材料在使用過程中經常會遇到這種環境。

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